退火爐是一種新型換熱設備。退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。加熱方式有電加熱、燃油、燃氣、燃煤、熱風循環(huán)。

　　退火爐的用途：

　　退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導體晶片而設計的設備完成的。退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐，超節(jié)能結構，采用纖維結構，節(jié)電60%。

　　退火爐按熱源分類：

　　退火爐按熱源分類主要有電熱爐、燃煤退火爐、燃油退火爐、天然氣退火爐、煤氣退火爐等，其中以自備煤氣發(fā)生爐所產(chǎn)煤氣退火爐應用zui廣泛。煤氣退火窯減去了燃燒室，直接利用煤氣燒嘴在加熱室噴射燃燒。為了降低能耗，煤氣退火窯往往配有換熱系統(tǒng)，將空氣轉換為助燃熱風進行煤氣的助燃。

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